钼（10%）铌合金溅射靶材在薄膜太阳电池和显示器中具有广阔的应用前景。但是，由于铌粉体在烧结过程中对氧的吸收，导致烧结后的钼铌坯体含氧量高、密度低。本次在CH4气氛下通过化学气相反应制备了铌碳包覆层的铌粉末。铌碳层不仅有助于阻止氧的吸收，而且可以在所需温度下与氧反应完全消耗掉。研究了制备方法、反应介质和反应参数对铌碳层性能的影响，确定了佳工艺条件为：温度600℃，反应时间270min，气压0.04mpa。用扫描电子显微镜、X射线光电子能谱、电子探针显微分析、拉曼光谱和原子力显微镜对镀层的表面形貌、化学成分、分布和均匀性进行了表征。用ONH和CS分析仪测定了氧和碳的含量。将表面改性铌粉与钼粉混合，真空烧结，得到含氧量190ppm，碳含量290ppm，相对密度93%的Mo-10%Nb坯料。该坯料的质量明显优于用非表面改性铌粉制备的坯料。

铌靶材的用途

       作为铌及其合金膜的关键成分，铌溅射靶材用于彩色TFT LCD平板电脑，光学透镜，电子成像，信息存储，太阳能电池，玻璃涂层以及在耐腐蚀环境中，例如运输和化工生产领域。

       如今，铌溅射靶材主要应用于先进的触摸屏，平板显示器和节能玻璃的表面涂层。在玻璃屏幕上具有防反射作用。

       高纯度铌靶材有各种形式，纯度，尺寸和价格，详细了解请咨询我们！